真空箱式炉

简要描述：一、真空箱式炉应用领域该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和厦门宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空电阻炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于特殊材料的热处理

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更新时间：2024-12-03
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一、真空箱式炉应用领域

该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和厦门宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空电阻炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于特殊材料的热处理。

二、真空箱式炉主要特点

炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气等气体，能抽真空，真空度可达10pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

选配配置：

1、玻璃转子流量计和进出口管道

2、真空泵
3、安装调试，培训

4、刚玉坩埚
5、备品备件

6、报警器（超温、设备异常）与蜂鸣器（设备运行结束提示）

7、自动进气（气体保护）、自动放气（超压）、自动抽真空

8、冷却水循环系统

9、真空计

真空箱式炉规格型号

设备型号	GR.VBF8/16	GR.VBF12/16	GR.VBF18/16	GR.VBF36/16
最高温度	1600℃	1600℃	1600℃	1600℃
额定温度	1500℃	1500℃	1500℃	1500℃
控制精度	±1℃	±1℃	±1℃	±1℃
炉膛尺寸(mm)	200x200x200 (DxWxH)	300x200x200 (DxWxH)	300x250x250 (DxWxH)	400x300x300 (DxWxH)
发热元件	硅钼棒	硅钼棒	硅钼棒	硅钼棒
冷态极限真空	10pa	10pa	10pa	10pa
冷态压升率	≦10～20pa/h	≦10～20pa/h	≦10～20pa/h	≦10～20pa/h
最大功率	4kw	7kw	9kw	16kw

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